隨著我國半導體、光電技術的飛速發展，研發提純凈化水平高、耐高壓、使用方便、投資少、易推廣的目標，對N2、H2、He、Ar、O2、NO氣體配制用高壓提純技術及裝置尤為重要。

 

一、氮氣提純技術

 

采用高效的脫氧催化劑，利用脫氧催化劑的氧化還原特點，脫除N2中的痕量O2，脫氧在室溫下進行，催化劑失活后通氫還原，還原溫度為350-450℃，其特點是有一定的水蒸汽排出。然后用大量的N2吹洗或抽空與通氮相結合的方式將H2吹凈。

 

二、氫氣、氦氣提純技術

 

提純裝置內充裝兩種耐低溫的多孔吸附劑，經過良好的換熱設計，在低溫條件下吸附，可有效將H2、He中的雜質除去，其純度可達99.9999%，由于條件十分的苛刻，操作者一定要經過嚴格的培訓指導，否則極易發生安全事故。由于該方法可有效除去H2中的N2、CO、CH4等，也可以推廣為規模化H2提純方式，此類低溫法是高純H2生產的重要方法之一。

 

三、一氧化碳提純技術

 

一氧化碳為底氣的標準氣體，市場需求盡管不大，但用戶必需，該標氣要求CO2、O2成分的含量較低，采用高純CO配制從理論講是可以的，但高純CO的價格較高，同時高純CO有時其中的CO2、O2含量也滿足不了要求，為此，必須利用現有條件，在氣體的超純提純上下工夫，通過完備的分析設備和分析技術，可以成功解決這一問題，根據標準氣體的制造特點，采用脫氧和脫水在同一裝置內內同時實現，設備工作壓力15MPa，所用的催化劑為3種不同活性的復合型脫氧劑，其中的一種抗中毒容量大，測試效果十分明顯，從中也獲得CO脫O2、CO2技術，為電子級CO的生產提供了技術拓展基礎。

 

四、氬氣提純技術

 

高純氬氣的分析檢測，需要標準氣體。根據GB/T10642高純氬氣國家標準，高純氬氣分為3個等級，其控制成分要求較地低，通常大空分分餾出來的液態Ar質量很好。氬氣的凈化除采用精餾的方法外，對充瓶后的氬多采用終端提純的手段，吸氣劑可以同氬氣中的幾乎所有的雜質反應，反應的程度取決于雜質的種類及反應溫度，N2是比較難除的雜質，其它如O2、CO2、H2O雜質可通過其它的常規方法除凈，為了節省價格不菲的吸氣劑，在提純設備流程設計時，應考慮氣體的初級凈化，由于吸氣劑的激化溫度高達500℃以上，又是在高壓下工作，所以所用設備的安全問題，是必須要高度的重視，吸氣劑由于參加了化學反應，在使用時不斷的消耗，其吸氣能力隨著床層的降低而不斷下降，當發現Ar的純度下降，應考慮是否需要更換吸氣劑。在Ar提純時可采用國產的吸氣劑，成本可降低較多。